Accessori di misura integrati multifunzionali
Test polarografici mediante trasmissione o riflessione. I test di stress possono essere eseguiti utilizzando il metodo dell'inclinazione o lo stesso metodo dell'inclinazione. Test su film sottile (rotazione nel piano del campione).
- Tongda
- Liaoning, Cina
- 1-2 mesi
- 100 unità all'anno
- informazione
Gli accessori di misura integrati multifunzionali, sviluppati da Dandong Tongda Technology Co., Ltd., sono moduli integrati ad alta precisione, specificamente progettati per goniometri grandangolari. Grazie al collegamento multiasse e al controllo intelligente, consentono un'analisi completa di film sottili su piastre, materiali sfusi e substrati, consentendo la determinazione precisa di parametri chiave, tra cui l'identificazione di fase, la distribuzione dell'orientamento, l'evoluzione della texture, i campi di stress residui e la struttura planare del film sottile.
Principi tecnici fondamentali e caratteristiche funzionali degli accessori di misura integrati multifunzionali
Test della figura polare a doppia modalità (trasmissione e riflessione)
Il metodo di trasmissione è adatto a campioni trasparenti o a strato sottile (ad esempio, film polimerici, rivestimenti ottici). Rileva i segnali di diffrazione che penetrano nel campione per ottenere informazioni sull'orientamento 3D dei grani interni.
Il metodo di riflessione è mirato a campioni altamente assorbenti o opachi (ad esempio, lamiere laminate, substrati ceramici). Analizza l'orientamento del piano cristallino tramite segnali di diffrazione superficiale. La combinazione di entrambi i metodi consente la costruzione di figure polari a spazio pieno, consentendo una quantificazione precisa dei tipi di texture (ad esempio, texture di fibre, texture di fogli).
Test di stress tramite metodi Psi (inclinazione laterale) e Omega (accoppiato)
Il metodo Omega (scansione accoppiata) mantiene l'allineamento simmetrico del rivelatore e della sorgente di raggi X, rendendolo adatto all'analisi dello stress superficiale.
Il metodo Psi (inclinazione laterale) prevede l'inclinazione del campione per separare i gradienti di stress dalle distorsioni reticolari. È particolarmente applicabile per l'analisi approfondita della distribuzione dello stress in materiali a gradiente o film multistrato.
Combinando i dati di entrambi i metodi, è possibile calcolare le sollecitazioni residue macroscopiche (ad esempio quelle introdotte dalla lavorazione o dal trattamento termico), fornendo una base di valutazione per la resistenza all'usura e le proprietà anti-fatica.
Analisi della struttura in piano del film sottile
Utilizza la scansione continua dell'asse β (rotazione sul piano) da 0° a 360° per mappare gli orientamenti della grana all'interno del piano della pellicola.
Questa funzione è progettata specificamente per studi di corrispondenza reticolare in film sottili epitassiali e materiali bidimensionali, consentendo l'analisi delle relazioni di orientamento dell'interfaccia eterogiunzione e della densità dei difetti.
Sistema di posizionamento meccanico di precisione
Il sistema di movimento multiasse di Multifunctional Integrated Measuring Accessories impiega encoder ad alta precisione e controllo a circuito chiuso per garantire la ripetibilità e l'accuratezza dei dati:
Asse α (inclinazione): intervallo dinamico: da -45° a 90°, dimensione minima del passo: 0,001°. Supporta misurazioni dall'incidenza radente alla diffrazione ad alto angolo.
Asse β (rotazione sul piano): rotazione continua di 360°, passo: 0,001°. Consente la scansione dell'orientamento del campione senza angoli morti.
Asse Z (sollevamento verticale): intervallo di corsa: 0-10 mm, passo minimo: 0,001 mm. Adatto a campioni di spessore variabile (da sottili nanorivestimenti a spesse leghe).
Compatibilità dei campioni: supporta campioni fino a Φ100 mm di dimensioni con altezza regolabile, adattandosi a diverse forme, dai wafer di silicio ai pezzi personalizzati.
Campi di applicazione degli accessori di misura integrati multifunzionali
Valutazione della struttura cristallografica (orientamento preferito) in lamiere laminate e altri materiali metallici;
Analisi dell'orientamento dei cristalli nella ceramica;
Valutazione dell'orientamento preferito dei cristalli nei campioni di film sottile;
Prove di sollecitazione residua in vari materiali metallici e ceramici (valutazione di proprietà quali resistenza all'usura, lavorabilità, ecc.);
Misurazione delle tensioni residue nei film multistrato (valutazione della delaminazione del film, ecc.);
Analisi di strati superficiali di ossido o nitruro su film sottili di materiale superconduttore ad alta temperatura, piastre metalliche, ecc.;
Caratterizzazione di rivestimenti multistrato su substrati di vetro, silicio (Si) o metallo (ad esempio, film sottili magnetici, rivestimenti metallici induriti in superficie);
Analisi di materiali placcati/rivestiti su polimeri, carta, lenti e altri substrati.

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