Per comprendere i cambiamenti nella struttura cristallina dei campioni durante il riscaldamento ad alta temperatura e i cambiamenti nella dissoluzione reciproca di varie sostanze durante il riscaldamento ad alta temperatura.Fissaggio in situ ad alta temperaturaÈ un dispositivo sperimentale utilizzato per la caratterizzazione in situ di materiali ad alta temperatura, principalmente per studiare processi dinamici come cambiamenti nella struttura cristallina, transizioni di fase e reazioni chimiche dei materiali durante il riscaldamento ad alta temperatura. Di seguito viene fornita un'introduzione dettagliata in merito a parametri tecnici, scenari applicativi e precauzioni:
uno, Parametri tecnici diattacchi ad alta temperatura in situ
1. Intervallo di temperatura diattacchi ad alta temperatura in situ
Ambiente di gas inerte/vuoto: la temperatura massima può raggiungere i 1600 ℃.
Ambiente standard: temperatura ambiente fino a 1200 ℃ (come previsto nell'accessorio TD-3500 XRD).
2. Precisione del controllo della temperatura diaccessori ad alta temperatura in situ: solitamente ± 0,5 ℃ (come gli accessori ad alta temperatura in loco) e la precisione di alcune apparecchiature sopra i 1000 ℃ è ± 0,5 ℃.
3. Materiali delle finestre e metodi di raffreddamento perattacchi ad alta temperatura in situ
Materiale della finestra: pellicola di poliestere (resistente a temperature fino a 400 ℃) o foglio di berillio (spessore 0,1 mm), utilizzato per la penetrazione dei raggi X.
Metodo di raffreddamento: il raffreddamento mediante circolazione di acqua deionizzata garantisce un funzionamento stabile dell'apparecchiatura in condizioni di temperatura elevata.
4. Controllo dell'atmosfera e della pressione degli attacchi ad alta temperatura in situ:
Supporta gas inerti (come Ar, N₂), vuoto o ambienti atmosferici e alcuni modelli possono sopportare pressioni inferiori a 10 bar.
La portata del gas atmosferico è regolabile (0,7-2,5 l/min), adatta agli ambienti con gas corrosivi.
due, Scenari applicativi diattacchi ad alta temperatura in situ
1. Ricerca sui materiali per attacchi in situ ad alta temperatura
Analizzare i cambiamenti nella struttura cristallina (come la transizione di fase del platino) e i processi di transizione di fase (come fusione e sublimazione) ad alte temperature. Studiare le reazioni chimiche dei materiali ad alte temperature, come dissoluzione e ossidazione.
2. Adattabilità delle attrezzature diattacchi ad alta temperatura in situ
Utilizzato principalmente nei diffrattometri a raggi X (XRD), come TD-3500, TD-3700, ecc. Può essere utilizzato anche per prove di trazione in situ mediante microscopia elettronica a scansione (SEM), con connessioni flangiate personalizzate richieste.
tre, Precauzioni per l'usoaccessori ad alta temperatura in situ
1. Requisiti campione per attacchi ad alta temperatura in situ
È necessario testare preventivamente la stabilità chimica del campione nell'intervallo di temperatura target per evitare la decomposizione in acidi/basi forti o la formazione di legami ceramici. La forma del campione deve soddisfare i requisiti dell'attacco (ad esempio, spessore 0,5-4,5 mm, diametro 20 mm).
2. Procedure operative sperimentali per attacchi ad alta temperatura in situ
La velocità di riscaldamento deve essere controllata (ad esempio, massimo 200 °C/min a 100 °C) per evitare il surriscaldamento e il danneggiamento dell'apparecchiatura. Dopo l'esperimento, il campione deve essere raffreddato a temperatura ambiente per evitare danni strutturali.
